高纯度

高纯度

清洗半导体、光学和精密技术

原子层面的工业超精细清洁 - 具备可验证的过程安全性

为何采用 BvL 进行高纯度清洗?

当部件要求绝对洁净度(颗粒细至 0.5 μm 和分子层面的无残留)时,所需不仅限于技术:还需了解材料、过程和要求。

我们通过模块化浸没清洗设备 Atlantic 提供针对部件、洁净度目标及行业标准精确定制的解决方案(从清洁等级 2 到清洁等级 1),例如用于超高真空 (UHV) 清洁。

为何采用 BvL 进行高纯度清洗?

原子层面的工业超精细清洁 - 具备可验证的过程安全性

当部件要求绝对洁净度(颗粒细至 0.5 μm 和分子层面的无残留)时,所需不仅限于技术:还需了解材料、过程和要求。

我们通过模块化浸没清洗设备 Atlantic 提供针对部件、洁净度目标及行业标准精确定制的解决方案(从清洁等级 2 到清洁等级 1),例如用于超高真空 (UHV) 清洁。

您的优势

采用 BvL 进行高纯度清洗

  • 采用超纯水 (UPW)、超声波和真空进行清洁
  • 可记录的审计和验证过程
  • 兼容敏感材料(例如钛、不锈钢、PEEK)
  • 在 BvL 技术实验室中使用您的原装部件进行测试运行(包括在自有暗室中进行的 UV-A 检测和 PMC)
  • 为清洁服务提供商 (CSP) 提供技术咨询与全球服务

高纯度项目中客户的核心关切

我们在具有超高洁净度要求的项目中不断遇到类似问题:

  • 如何满足对例如等级 1 部件的颗粒和分子污染物清洁度不断提高的要求?
  • 如何安全清洁复杂几何形状与精密微型组件?
  • 如何可靠地记录和重复可验证的过程?
  • 如何在不产生摩擦损失的情况下集成到现有生产环境或洁净室中?

我们的答案:

技术精良、可灵活配置的精密清洗设备

专为半导体清洗、光学清洗及精密部件清洗的严格要求打造,具备可量化的洁净度与全项目周期的可靠支持。

源于实践 源于实践

典型应用领域

半导体行业:

清洗复杂超高真空 (UHV) 部件、极紫外 (EUV) 与深紫外 (DUV) 光刻组件、外壳、支架、晶圆处理系统

要求:
细至 0.5 µm 的超低颗粒数、H2O 与碳氢化合物的可控脱气量、低原子百分比范围的 HIO 元素

光学行业:

透镜、棱镜、滤光片、框架、光机组件的超精细清洁


目标:
涂装或装配前的无残留表面、敏感材料的超高洁净度

精密技术:

清洗微型组件、轴承、弹簧、传感器、具有精密公差的部件


重点:
在不影响材料的情况下安全去除加工残留物,例如冷却润滑剂、油污和颗粒

我们的解决方案:Atlantic 浸没清洗设备

我们通过 Atlantic 提供适用于工业高纯度清洗的强大系统,其灵活性、清洁性能及流程稳定性备受认可:

技术特征(节选):

  • 具备定制数量清洗站、冲洗站和干燥站的多级清洗过程
  • 超声波清洗(例如 40、80 和 120 kHz,多频系统,用于精密几何形状的具有调频清扫功能的超声波发生器)
  • 采用具有低电导率与低 TOC 值的去离子水 (VE) 和超纯水 (UPW)
  • HEPA 过滤的热风与真空干燥
  • 通过振荡与旋转实现物料运动
  • 全自动过程监控(如电导率、pH 值、清洗液维护)
  • 兼容各种材料:铝、钛、不锈钢、PEEK 等
  • 可自由设定的程序流程确保超高灵活性
  • 基于批次的完整过程参数记录
     

PMC 和残余气体分析 (RGA) 结果:

我们的 Atlantic 目前已经符合行业洁净度标准,在颗粒方面达到 1 级水准,在分子污染物方面达到 2 级水准。

高纯度

我们的 Atlantic 多腔浸没设备

我们的浸没清洗设备广泛应用于半导体行业、光学加工及精密部件清洁等针对敏感部件具有超高技术清洁度的领域。.




VIT – 真空脉冲技术

创新型压力变化工艺

我们针对具有复杂几何形状、狭窄通道或盲孔的部件开发出更高级别的工业超精细清洗

VIT(真空脉冲技术)——实现更佳介质交换和污垢去除效果的创新型压力变化工艺。

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